Электронный каталог Фундаментальной
библиотеки ФГБОУ ВО МГППУ

👓
eng|rus
Фундаментальная библиотека Московского
государственного психолого-педагогического
университета

Адрес: г. Москва, ул. Сретенка, д. 29
Телефон: 8 (495) 607-23-40
Часы работы: пн-пт — 9:00—20:00; сб — 10:00—18:00
bib_logo

Поиск :

  • Новые поступления
  • Простой поиск
  • Расширенный поиск

  • Авторы
  • Издательства
  • Серии
  • Тезаурус (Рубрики)

  • Учебная литература:
      • Список дисциплин

    • Помощь

    Личный кабинет :


    Электронный каталог: Берлин, Е. В. - Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

    Берлин, Е. В. - Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

    Нет экз.
    Электронный ресурс
    Автор: Берлин, Е. В.
    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии : справочник
    Серия: Мир материалов и технологий
    Издательство: Техносфера, 2010 г.
    ISBN 978-5-94836-222-9

    полный текст

    На полку На полку


    Электронный ресурс

    Берлин, Е. В.
    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии : справочник. – Москва : Техносфера, 2010. – 528 с. : ил.,табл., схем. – (Мир материалов и технологий) . – URL: https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417. – Режим доступа: электронная библиотечная система «Университетская библиотека ONLINE», требуется авторизация . – Библиогр. в кн . – На рус. яз. – ISBN 978-5-94836-222-9.

    Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии – реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.


    Общий = Справочные издания

    © Все права защищены ООО "Компания Либэр" , 2009 - 2025  v.20.159