Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Берлин, Е. В. - Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Берлин, Е. В. - Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Нет экз.
Электронный ресурс
Автор: Берлин, Е. В.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Серия: Мир материалов и технологий
Издательство: Техносфера, 2014 г.
ISBN 978-5-94836-369-1
Автор: Берлин, Е. В.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Серия: Мир материалов и технологий
Издательство: Техносфера, 2014 г.
ISBN 978-5-94836-369-1
На полку
Электронный ресурс
34.65
Берлин, Е. В.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Л.А. Сейдман. – Москва : Техносфера, 2014. – 256 с. – (Мир материалов и технологий) . – URL: http://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=273784 . – На рус. яз. – ISBN 978-5-94836-369-1.
Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография.Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок.Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления.Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
ББК 34.65
621.78
34.65
Берлин, Е. В.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Л.А. Сейдман. – Москва : Техносфера, 2014. – 256 с. – (Мир материалов и технологий) . – URL: http://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=273784 . – На рус. яз. – ISBN 978-5-94836-369-1.
Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография.Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок.Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления.Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
ББК 34.65
621.78